发明名称 具有聚合物涂层之反应室构件及其制造方法
摘要 一种制程室构件包括:一第一表面,其于使用中系暴露于腔室中的激发态气体,而第一表面包括聚对二甲苯(parylene)涂层;以及一第二表面,其于使用中并未暴露于激发态气体。制程室的内表面可以于原位(in situ)而涂覆有一聚合物涂层。一移动式配件(portable fixture)可用以于制程室中形成聚合物涂层。已具有涂层之腔室构件的重新磨光(refurbish)可利用臭氧及/或氧气而将聚合物剥除,并重新涂覆一聚合物。
申请公布号 TW200731393 申请公布日期 2007.08.16
申请号 TW095141584 申请日期 2006.11.09
申请人 应用材料股份有限公司 发明人 缪路盖许拉斯曼;都恩坦格T. DOAN, TRUNG T.
分类号 H01L21/306(2006.01) 主分类号 H01L21/306(2006.01)
代理机构 代理人 蔡坤财;李世章
主权项
地址 美国