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经营范围
发明名称
具有聚合物涂层之反应室构件及其制造方法
摘要
一种制程室构件包括:一第一表面,其于使用中系暴露于腔室中的激发态气体,而第一表面包括聚对二甲苯(parylene)涂层;以及一第二表面,其于使用中并未暴露于激发态气体。制程室的内表面可以于原位(in situ)而涂覆有一聚合物涂层。一移动式配件(portable fixture)可用以于制程室中形成聚合物涂层。已具有涂层之腔室构件的重新磨光(refurbish)可利用臭氧及/或氧气而将聚合物剥除,并重新涂覆一聚合物。
申请公布号
TW200731393
申请公布日期
2007.08.16
申请号
TW095141584
申请日期
2006.11.09
申请人
应用材料股份有限公司
发明人
缪路盖许拉斯曼;都恩坦格T. DOAN, TRUNG T.
分类号
H01L21/306(2006.01)
主分类号
H01L21/306(2006.01)
代理机构
代理人
蔡坤财;李世章
主权项
地址
美国
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