画素结构的制作方法

摘要

一种画素结构的制作方法，其步骤包括利用一第一光罩于一基板上形成一源极/汲极；重复利用两次一第二光罩于基板上分别形成一透明导电层及一通道层，其中透明导电层覆盖部分源极/汲极，并电性连接于源极/汲极，且透明导电层之图案与通道层之图案成互补；在基板上形成一介电层，以覆盖透明导电层与通道层；利用一第三光罩于介电层上形成一闸极。如此，画素结构具有较低的制作成本。