湿式蚀刻方法及湿式蚀刻装置

摘要

本发明系提供一种湿式蚀刻方法及湿式蚀刻装置，系于不使用光阻剂的情况下，在被处理物的表面进行微细图案的形成。使溶解有一氧化二氮(N2O)的溶液与被处理物接触，且将紫外光照射在形成有光遮蔽用图案之遮罩所遮断之部分以外之被处理物附近的溶液，而将照射紫外光之区域的被处理物予以湿式蚀刻。