| 摘要 |
本发明系一种利用浸式曝光而于被处理基板上形成光阻图案之基板处理方法。该基板处理方法系于被处理基板表面侧之部上、对上述被处理基板之周边部进行倒角加工而形成之上述表面侧之斜面部上、以及上述被处理基板之端部上，形成光阻膜。并于在上述光阻膜与曝光装置之投影光学系统中，最靠近上述被处理基板侧之构成要素之间，存在折射率大于空气之液体之状态下，进行于上述光阻膜上形成所期望图案之潜像的图案曝光。进而，于上述图案曝光后，向上述被处理基板之上述端部供给洗净液，去除形成于上述被处理基板之上述端部上的上述光阻膜。 |
