一新孔径设计以改善关键尺寸之准确性以及电子束微影制程之生产率

摘要

本发明系以一改良的孔径设计用于改善关键尺寸之准确性以及电子束微影制程。一倍缩光罩上一图形之产生或许可用下列所述的方法。将一电子束通过具有一第一形状之一第一孔径，该第一形状包含一上水平边、一下水平边、一垂直边、一上斜边以及一下斜边，其中一部分之该电子束被投射到一第二孔径。将该电子束之该部分通过具有一第二形状之该第二孔径，其中该第二形状系为该第一形状水平旋转180度之角度，将该第一以及该第二孔径之一重叠部份曝光于该倍缩光罩之一表面以产生一图案。