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经营范围
发明名称
包括在导电区域上的覆盖层之基板
摘要
一罩幕层系形成于一电子装置的一介电区域上,藉以在电子装置的导电区域上之一覆盖层的后续形成期间,罩幕层系抑制覆盖层材料形成于介电区域上或中。覆盖层可选择性地或非选择性地形成于导电区域上。形成于介电区域上方之覆盖层材料可随后被移除,故确保覆盖层材料只形成于导电区域上。覆盖层可利用适当程序形成。
申请公布号
TW200731459
申请公布日期
2007.08.16
申请号
TW095112178
申请日期
2006.04.06
申请人
交互分子股份有限公司
发明人
拉卓夫基斯;玛贺崔;波伍席;钱格
分类号
H01L21/76(2006.01);H01L21/768(2006.01);H01L21/02(2006.01)
主分类号
H01L21/76(2006.01)
代理机构
代理人
恽轶群;陈文郎
主权项
地址
美国
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