热线遮蔽膜形成基材之制法

摘要

本发明系提供一种热线遮蔽膜形成基材之制法，包含：将三烷氧基矽烷或三烷氧基矽烷与四烷氧基矽烷为起始原料所形成之溶胶溶液，以及分散有掺杂锡之氧化铟的超微粒子之溶液混合，作为处理剂的步骤；以及将处理剂涂布于基材的涂布步骤。于该制法，上述处理剂为具有沸点为100至200℃的有机溶剂作为分散媒之处理剂，上述涂布步骤的涂布，系由使保持处理剂的构件接触基材的手段，或藉由处理剂的喷雾之手段，使所形成的膜的雾度值为0.5％以下。