半导体曝光方法与操作半导体曝光装置的方法

摘要

一种半导体曝光方法适于利用一曝光机台对一晶片进行曝光。这种曝光机台至少是由一曝光镜头、用来承载晶片的一承载台以及一液体循环装置构成，其中液体循环装置在曝光期间于曝光镜头与晶片之间供应一液体，其特征在于曝光前，利用至少一对准光源对承载台进行一对准操作，其中对准光源具有一特定波长，使液体挥发时对对准光源的影响降至最低，以防止液体影响前述对准操作。