发明名称 沈积系统及方法
摘要 一种基板处理方法包含:将基板置于用以施行沈积处理之沈积室中;及使用该沈积处理来将一膜沈积于该基板上。接着自该沈积室将具有该膜于其上之该基板传送至处理室中,在该处理室中于该基板上施行一电浆清理处理。在电浆清理处理后,施行基板之更进一步处理。
申请公布号 TW200731353 申请公布日期 2007.08.16
申请号 TW095109574 申请日期 2006.03.21
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 石忠大;奥德恩 卢德维克森
分类号 H01L21/205(2006.01);H01L21/30(2006.01) 主分类号 H01L21/205(2006.01)
代理机构 代理人 周良谋;周良吉
主权项
地址 日本