发明名称 | 沈积系统及方法 | ||
摘要 | 一种基板处理方法包含:将基板置于用以施行沈积处理之沈积室中;及使用该沈积处理来将一膜沈积于该基板上。接着自该沈积室将具有该膜于其上之该基板传送至处理室中,在该处理室中于该基板上施行一电浆清理处理。在电浆清理处理后,施行基板之更进一步处理。 | ||
申请公布号 | TW200731353 | 申请公布日期 | 2007.08.16 |
申请号 | TW095109574 | 申请日期 | 2006.03.21 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 石忠大;奥德恩 卢德维克森 |
分类号 | H01L21/205(2006.01);H01L21/30(2006.01) | 主分类号 | H01L21/205(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 周良谋;周良吉 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |