发明名称 | 基板处理装置 | ||
摘要 | 本发明之课题提供一种可防止氟化氢附着于处理箱内面等的基板处理装置。本发明之解决手段一种将基板收容于处理箱内加以处理的装置,其中具备对处理箱40内供给氟化氢气体的氟化氢气体供给通路61;处理箱40之内面的一部分或全部,系构成为由未施加表面氧化处理的铝或铝合金所形成。处理箱40,系具备闭塞处理箱本体51之上部开口的盖体52;最少盖体52之内面,系由未施加氧化铝处理的铝或铝合金所形成。 | ||
申请公布号 | TW200731395 | 申请公布日期 | 2007.08.16 |
申请号 | TW095148576 | 申请日期 | 2006.12.22 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 户泽茂树;村木雄介;饭野正;林大辅 |
分类号 | H01L21/306(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/306(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 林志刚 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |