发明名称 垂直MOS电晶体及其形成方法VETTICAL MOS TRANSISTOR AND METHOD OF FORMING THE SAME
摘要 一种掺杂矽区块或岛状物,其系形成于在一晶粒或晶片之基板中的一汲极电极上方,且具有对应于一通道之期望长度的高度。一源极电极系形成于该矽岛状物上方及允许来自上方之接触。亦可以使上方,与一L状控制闸及与该表面下汲极作接触。源极、闸极及汲极之一水平阵列的接点系形成用于该所建构之垂直电晶体。倘若将奈米晶体层并入在该闸极与该通道间之层,可形成非挥发性浮动闸极电晶体。如无该奈米晶体层,则形成MOS或CMOS电晶体。
申请公布号 TW200731550 申请公布日期 2007.08.16
申请号 TW095114847 申请日期 2006.04.26
申请人 艾特梅尔公司 发明人 波修米尔 洛杰克
分类号 H01L29/94(2006.01);H01L21/8238(2006.01);H01L29/66(2006.01) 主分类号 H01L29/94(2006.01)
代理机构 代理人 赖经臣;宿希成
主权项
地址 美国