发明名称 |
垂直MOS电晶体及其形成方法VETTICAL MOS TRANSISTOR AND METHOD OF FORMING THE SAME |
摘要 |
一种掺杂矽区块或岛状物,其系形成于在一晶粒或晶片之基板中的一汲极电极上方,且具有对应于一通道之期望长度的高度。一源极电极系形成于该矽岛状物上方及允许来自上方之接触。亦可以使上方,与一L状控制闸及与该表面下汲极作接触。源极、闸极及汲极之一水平阵列的接点系形成用于该所建构之垂直电晶体。倘若将奈米晶体层并入在该闸极与该通道间之层,可形成非挥发性浮动闸极电晶体。如无该奈米晶体层,则形成MOS或CMOS电晶体。 |
申请公布号 |
TW200731550 |
申请公布日期 |
2007.08.16 |
申请号 |
TW095114847 |
申请日期 |
2006.04.26 |
申请人 |
艾特梅尔公司 |
发明人 |
波修米尔 洛杰克 |
分类号 |
H01L29/94(2006.01);H01L21/8238(2006.01);H01L29/66(2006.01) |
主分类号 |
H01L29/94(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
赖经臣;宿希成 |
主权项 |
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地址 |
美国 |