发明名称 基板保持装置及曝光装置、以及元件制造方法
摘要 基板保持装置(4T),具备:基材(30);支撑部(81),其形成于基材(30)上,用以支撑基板(P);周壁,其形成于基材(30)上,且包围支撑部(81);第1区域(31),其沿周壁(33)以环状设置于基材(30)上,与支撑部(81)所支撑之基板(P)之背面形成第1间隙(G1),以将从支撑部(81)所支撑之基板(P)与周壁(33)之间渗入的液体(LQ)保持于该第1区域(31)与基板(P)之间;以及第2区域(32),其于基材(30)上相对周壁(33)设于第1区域(31)内侧,与支撑部(81)所支撑之基板(P)之背面形成大于第1间隙(G1)的第2间隙(G2)。
申请公布号 TW200731032 申请公布日期 2007.08.16
申请号 TW096101721 申请日期 2007.01.17
申请人 尼康股份有限公司 发明人 水谷刚之;柴崎佑一
分类号 G03F9/00(2006.01);G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F9/00(2006.01)
代理机构 代理人 桂齐恒;阎启泰
主权项
地址 日本