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Es werden ein LCD und ein Verfahren zu dessen Herstellung angegeben. Das LCD ist mit Folgendem versehen: einem Gatekontaktfleck mit einer auf einem Substrat hergestellten ITO-Gateelektrode (115), einer ersten unteren Gatekontaktfleckelektrode (114a) und einer zweiten unteren Gatekontaktfleckelektrode (114b), die auf einem vorbestimmten Bereich der ITO-Gateelektrode ausgebildet sind, einer auf der ersten und der zweiten unteren Gatekontaktfleckelektrode hergestellten Gateisolierschicht (111), einer auf dieser hergestellten Passivierungsschicht (113) sowie einer auf dieser hergestellten oberen Gatekontaktfleckelektrode und mit mindestens einem Kontaktloch (H1) und einer Flüssigkristalltafel mit einer Gateleitung mit Doppelstruktur, die integral aus der ersten unteren Gatekontaktfleckelektrode und der zweiten unteren Gatekontaktfleckelektrode aufgebaut ist.
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