| 发明名称 | 曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种曝光装置，其具备：喷嘴构件(70)，具有供给液体(LQ)的供给口(12)以及回收液体(LQ)的回收口(22)中的至少一者；和喷嘴调整机构(80)，根据衬底(P)的位置或姿势调整喷嘴构件(70)的位置以及倾斜中的至少任意一者。曝光装置在衬底(P)上形成液体(LQ)的浸液区域，隔着浸液区域的液体(LQ)对衬底(P)进行曝光。由此，可以将液体良好地保持在投影光学系统与衬底之间，进行高精度的曝光处理。 | ||
| 申请公布号 | CN101019209A | 申请公布日期 | 2007.08.15 |
| 申请号 | CN200580031061.3 | 申请日期 | 2005.09.16 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 水谷刚之 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01);G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | H01L21/027(2006.01) |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 雒运朴;徐谦 |
| 主权项 | 1.一种曝光装置，隔着浸液区域的液体对衬底进行曝光，其特征在于，具备：喷嘴构件，具有供给上述液体的供给口以及回收上述液体的回收口中的至少一者；和喷嘴调整机构，根据与上述喷嘴构件相对配置的物体的表面位置，调整上述喷嘴构件的位置以及倾斜中的至少一者。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||