| 发明名称 | 多组分阻挡层抛光液 | ||
| 摘要 | 一种可用来在至少一种非铁互连金属的存在下去除阻挡层材料，而且对电介质仅造成有限腐蚀的抛光液，该抛光液包含：0－20重量％的氧化剂；至少0.001重量％的用来减小非铁互连金属去除速率的抑制剂；1ppm至4重量％的形成季铵结构的有机铵阳离子盐；1ppm至4重量％的阴离子性表面活性剂，所述阴离子性表面活性剂包含4－25个碳原子，所述铵阳离子盐与阴离子性表面活性剂总共包含6－40个碳原子；0－50重量％的磨料和余量的水；所述溶液的pH值小于7。 | ||
| 申请公布号 | CN101016440A | 申请公布日期 | 2007.08.15 |
| 申请号 | CN200710005150.1 | 申请日期 | 2007.02.07 |
| 申请人 | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 | 发明人 | 卞锦儒;刘振东 |
| 分类号 | C09G1/04(2006.01);C09G1/02(2006.01);H01L21/304(2006.01) | 主分类号 | C09G1/04(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 沙永生 |
| 主权项 | 1.一种可用来在至少一种非铁互连金属的存在下去除阻挡层材料，而且对电介质仅造成有限腐蚀的抛光液，该抛光液包含：0-20重量％的氧化剂；至少0.001重量％的用来减小非铁互连金属去除速率的抑制剂；1ppm至4重量％的包含下式所示离子的有机铵阳离子盐，式中R1、R2、R3和R4是原子团，R1的碳链包含2-25个碳原子；1ppm至4重量％的阴离子性表面活性剂，所述阴离子性表面活性剂包含4-25个碳原子，所述铵阳离子盐与阴离子性表面活性剂总共包含6-40个碳原子；0-50重量％的磨料和余量的水；所述抛光液的pH值小于7。 | ||
| 地址 | 美国特拉华州 | ||