| 发明名称 | 电浆辅助化学气相沉积装置及方法 | ||
| 摘要 | 一种基板处理系统，包括一沉积室(102)以及位于该沉积室(102)之内的复数个管状电极(126)，界定其间的电浆区域(128)。 | ||
| 申请公布号 | CN101018887A | 申请公布日期 | 2007.08.15 |
| 申请号 | CN200480043215.6 | 申请日期 | 2004.09.14 |
| 申请人 | 光学日光公司 | 发明人 | 马文·S·凯屈纳;保罗·H·麦克尔伦 |
| 分类号 | C23C16/54(2006.01) | 主分类号 | C23C16/54(2006.01) |
| 代理机构 | 中国商标专利事务所有限公司 | 代理人 | 万学堂 |
| 主权项 | 1.一种基板处理系统，包括：一沉积室；以及位于该沉积室之内的复数个管状电极，界定邻近于其的电浆区域，并且具有内腔及孔，该孔将该内腔连接至该沉积室。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||