| 发明名称 | 氧化处理设备及其处理方法 | ||
| 摘要 | 一种氧化处理设备，此氧化处理设备由混合器、氧化剂供应单元、氧化剂吸收及反应槽、触媒氧化反应槽与紫外光氧化反应槽所构成。其中，氧化剂供应单元与混合器连接，氧化剂吸收及反应槽与混合器连接，触媒氧化反应槽与氧化剂吸收及反应槽连接，紫外光氧化反应槽与触媒氧化反应槽连接。通过氧化剂吸收及反应槽的设计，可提高氧化剂利用率及污染物之处理效率。 | ||
| 申请公布号 | CN101016183A | 申请公布日期 | 2007.08.15 |
| 申请号 | CN200610003102.4 | 申请日期 | 2006.02.10 |
| 申请人 | 慧群环境科技股份有限公司 | 发明人 | 林树荣;孙观丰;蔡耀辉 |
| 分类号 | C02F1/72(2006.01);C02F1/32(2006.01) | 主分类号 | C02F1/72(2006.01) |
| 代理机构 | 北京连和连知识产权代理有限公司 | 代理人 | 姜兆元 |
| 主权项 | 1.一种氧化处理设备，其特征是包括：混合器；氧化剂供应单元，与上述混合器连接；氧化剂吸收及反应槽，与上述混合器连接；触媒氧化反应槽，与上述氧化剂吸收及反应槽连接；以及紫外光氧化反应槽，与上述触媒氧化反应槽连接。 | ||
| 地址 | 台湾省台北市内湖区民权东路六段160号8楼之3 | ||