| 发明名称 | 构图方法和显示装置的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种构图方法，其包括：在基膜上涂布光敏表面活性剂；在表面活性剂上形成有机层；通过在有机层上具有预定开口的掩模将表面活性剂曝光，从而减小表面活性剂和有机层之间的粘合度；将基膜粘接到绝缘基板，有机层面对绝缘基板；以及通过将基膜从绝缘基板分离，将对应于曝光的表面活性剂的有机层转移到绝缘基板。本方法提供了一种简化的构图工艺，和使用其的显示装置的制造方法。 | ||
| 申请公布号 | CN101017880A | 申请公布日期 | 2007.08.15 |
| 申请号 | CN200710005497.6 | 申请日期 | 2007.02.08 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 金保成 |
| 分类号 | H01L51/00(2006.01);H01L51/40(2006.01);H01L51/56(2006.01);H01L21/84(2006.01);G02F1/1335(2006.01) | 主分类号 | H01L51/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波 |
| 主权项 | 1、一种构图方法，包括：在基膜上涂布光敏表面活性剂；在所述表面活性剂上形成有机层；通过在所述有机层上具有预定开口的掩模将所述表面活性剂曝光，从而减小表面活性剂和有机层之间的粘合度；将基膜粘接到绝缘基板，所述有机层面对绝缘基板；以及通过将基膜从绝缘基板分离，将对应于曝光的表面活性剂的有机层转移到绝缘基板。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||