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发明名称 METHOD AND APPARATUS FOR COMPENSATING NON-UNIFORM WAFER PROCESSING IN PLASMA PROCESSING
摘要
申请公布号 EP1166323(B1) 申请公布日期 2007.08.15
申请号 EP20000912029 申请日期 2000.02.25
申请人 LAM RESEARCH CORPORATION 发明人 HAO, FANGLI, J.
分类号 H01J37/32;H05H1/46;C23C16/458;H01L21/205;H01L21/66;H01L21/68;H01L21/683 主分类号 H01J37/32
代理机构 代理人
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