| 发明名称 | 光刻胶保护膜形成用材料以及使用该材料的光刻胶图案的形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明在浸液曝光工艺中，能同时防止利用包括水在内的各种浸渍液的浸液曝光中的光刻胶膜的变质及所用的浸渍液的变质，且不会增加处理工序数量，可在浸液曝光下形成高分辨率的光刻胶图案。还可应用于更高折射率的浸液介质，通过与这样的高折射率浸液介质一起使用，能进一步提高图案精度。利用含有丙烯酸类树脂的组合物在所使用的光刻胶膜表面上形成保护膜，而所述丙烯酸类树脂具有相对于浸渍光刻胶膜的液体尤其是水实质上没有相溶性且可溶于碱的特性。 | ||
| 申请公布号 | CN101019076A | 申请公布日期 | 2007.08.15 |
| 申请号 | CN200580025673.1 | 申请日期 | 2005.07.29 |
| 申请人 | 东京应化工业株式会社 | 发明人 | 远藤浩太郎;吉田正昭;石冢启太 |
| 分类号 | G03F7/11(2006.01);G03F7/039(2006.01);G03F7/20(2006.01);G03F7/38(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/11(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 | 代理人 | 徐雁漪 |
| 主权项 | 1.一种光刻胶保护膜形成用材料，用于形成光刻胶膜的上层保护膜，其特征在于，该光刻胶保护膜形成用材料至少含有丙烯酸类聚合物和溶剂，并可溶于碱。 | ||
| 地址 | 日本神奈川 | ||