| 发明名称 | 用反射或透射红外光来检查微结构的设备和方法 | ||
| 摘要 | 先前所使用的检查装置和方法通常使用已反射的可见光或UV光来操作以分析(例如)晶片(38)的微结构样品。本发明的目的在于增加所述装置的可能的用途，即，尤其是为了表示例如可在两侧上均结构化的晶片的结构细节，所述结构细节在VIS或UV中是不可见的，因为涂层或中间材料是不透明的。通过在形成显著地改进IR图像中与其它对象之间的对比度的透照(52)时使用IR光作为反射光来达成所述目的，因而允许样品能同时以反射或透射的IR光和以反射的可见光来表示。 | ||
| 申请公布号 | CN101019061A | 申请公布日期 | 2007.08.15 |
| 申请号 | CN200580017989.6 | 申请日期 | 2005.05.23 |
| 申请人 | 比斯泰克半导体系统股份有限公司 | 发明人 | 威·葛瑞夫;蓝伯特·丹纳 |
| 分类号 | G02B21/08(2006.01);G01N21/95(2006.01) | 主分类号 | G02B21/08(2006.01) |
| 代理机构 | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 寿宁 |
| 主权项 | 1、一种用于检查微结构样品的设备，所述微结构样品例如晶片(28)，所述设备包括用于支撑所述例如晶片(28)的样品的样品支撑件(26)和用于在入射光模式中照射所述样品的入射光照射(50)，其特征在于另外提供透射光照射(52)以用于在透射光模式中照射所述样品。 | ||
| 地址 | 德国维尔堡市 | ||