| 发明名称 | 低折射率二氧化硅类涂膜形成用组合物 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种可以形成固体摄像器的透镜的保护膜、光波导路等光学部件中的低折射率层的低折射率二氧化硅类涂膜形成用组合物。该低折射率二氧化硅类涂膜形成用组合物含有硅氧烷聚合物和烷基季胺。作为上述硅氧烷聚合物，优选使用由(1)所表示的至少一种硅烷化合物的水解产物和/或部分缩合产物，R<SUB>n</SUB>SiX<SUB>4－n</SUB> (1)(式中，R独立地表示氢原子或1价有机基团，X表示水解性基团，n表示0～2的整数，并且多个R可以相同，也可以不同)。 | ||
| 申请公布号 | CN101016415A | 申请公布日期 | 2007.08.15 |
| 申请号 | CN200710006374.4 | 申请日期 | 2007.02.01 |
| 申请人 | 东京应化工业株式会社 | 发明人 | 坂本好谦;饭田启之 |
| 分类号 | C08L83/04(2006.01);C09D183/04(2006.01);C08K5/17(2006.01);G02B1/10(2006.01) | 主分类号 | C08L83/04(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 | 代理人 | 徐雁漪 |
| 主权项 | 1.一种低折射率二氧化硅类涂膜形成用组合物，其特征在于，含有硅氧烷聚合物和烷基季胺。 | ||
| 地址 | 日本神奈川 | ||