| 发明名称 | 用于铁电存储器的掺钕钛酸铋铁电薄膜及其低温制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于铁电存储器的掺钕钛酸铋铁电薄膜及其低温制备方法，属于微电子新材料与器件范围，该薄膜的组成及组分为：Bi<SUB>4－x</SUB>Nd<SUB>x</SUB>Ti<SUB>3</SUB>O<SUB>12</SUB>，其中，Nd中的x为掺钕钛酸铋中Nd占Nd和Bi元素总量的摩尔百分数；该Bi元素的过剩含量占Bi、Nd和Ti元素总量的摩尔百分数的范围为5％＜Bi＜20％；薄膜厚度为20nm～500nm。该制备方法由制备掺钕钛酸铋前驱体溶胶和低温制备掺钕钛酸铋铁电薄膜两部分组成；本发明制备出来的铁电薄膜具有优异的抗疲劳特性、较高的剩余极化强度(Pr)，较低的操作电压(Vc)以及能与CMOS工艺技术兼容等特点。特别适用于铁电存储器应用。 | ||
| 申请公布号 | CN101017829A | 申请公布日期 | 2007.08.15 |
| 申请号 | CN200710063820.5 | 申请日期 | 2007.02.12 |
| 申请人 | 清华大学 | 发明人 | 谢丹;任天令;薛堪豪;刘天志;张志刚;刘理天 |
| 分类号 | H01L27/115(2006.01);H01L21/314(2006.01);H01L21/8247(2006.01);G11C11/22(2006.01);H01B3/02(2006.01);C01G23/00(2006.01) | 主分类号 | H01L27/115(2006.01) |
| 代理机构 | 北京清亦华知识产权代理事务所 | 代理人 | 廖元秋 |
| 主权项 | 1、一种用于铁电存储器的掺钕钛酸铋铁电薄膜，其特征在于，该薄膜的组成及组分为：Bi4-xNdxTi3O12，即各组份的比例为：Bi∶Nd∶Ti∶O＝4-x∶x∶3∶12，其中，Nd中的x为掺钕钛酸铋中Nd占Nd和Bi元素总量的摩尔百分数，x的取值范围为0.1＜x＜1.0；所述掺钕钛酸铋中的Bi，相对于所述组分式Bi4-xNdxTi3O12的含量要过量添加，该Bi元素的过剩含量占Bi、Nd和Ti元素总量的摩尔百分数的范围为5％＜Bi＜20％；所述薄膜厚度为20nm～500nm。 | ||
| 地址 | 100083北京市海淀区清华园 | ||