发明名称 |
固液接触装置和方法 |
摘要 |
本发明涉及固液接触装置和方法。该垂直固液接触装置包括:相互串联地邻接垂直布置的多个搅拌室,都用于隔开相邻一对搅拌室并设有用于在所述相邻一对搅拌室之间连通的连通孔的多个隔板,以及设置在所述装置的上部和下部的液体入口和固体入口。每一个搅拌室具有限定所述搅拌室的内侧壁、径向排放搅拌叶片和在所述内侧壁上固定成垂直延伸的至少一个挡板。所述搅拌叶片和所述挡板定位成偏向所述搅拌室的下侧。该装置具有固体流和液体流的高均匀性和高接触效率,简单结构并且容易按比例放大。该装置可广泛地用于化学工业中的单元操作。该装置在接近其最大负荷操作时具有尤其良好的固液接触效率。 |
申请公布号 |
CN101018601A |
申请公布日期 |
2007.08.15 |
申请号 |
CN200580030954.6 |
申请日期 |
2005.07.27 |
申请人 |
株式会社吴羽 |
发明人 |
大桥裕昭;猪狩裕;小林正则;大田原健太郎 |
分类号 |
B01F7/16(2006.01);B01F3/14(2006.01) |
主分类号 |
B01F7/16(2006.01) |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 |
代理人 |
吴鹏;柴智敏 |
主权项 |
1.一种垂直固液接触装置,包括:相互串联地邻接垂直布置的多个搅拌室,都用于隔开相邻一对搅拌室并设有用于在所述相邻一对搅拌室之间连通的连通孔的多个隔板,以及设置在所述装置的上部和下部的液体入口和固体入口;每一个搅拌室具有限定所述搅拌室的内侧壁、径向排放搅拌叶片和在所述内侧壁上固定成垂直延伸的至少一个挡板;所述搅拌叶片和所述挡板定位成偏向所述搅拌室的下侧。 |
地址 |
日本东京都 |