通过气体分散器的等离子体均匀度控制

摘要

本发明提供了用以在制程腔室中散布气体的一气体分散板的实施例。在一实施例中，用于等离子体制程腔室的气体分散板组件至少包含一散布器板，该散布器板具有穿过其上游侧与下游侧之间的气体通道，与位于该些气体通道的下游侧的中空阴极腔穴。该散布器板的下游侧具有一弯曲性，以改善通过PECVD沉积的薄膜层(特别是氮化硅与非晶硅膜层)的厚度均匀性与膜层性质均匀性。弯曲性较佳地是由圆或椭圆的一弧、位在散布器板的中心点的顶点来描述。在一态样中，中空阴极腔穴体积密度、表面积密度、或散布器的腔穴密度是由散布器的中心增加至外缘。本发明也提供了用以制造这样的散布器板的方法。

主权项

1.一种用于等离子体制程腔室的气体分散板组件，至少包含：散布器板，其具有一上游侧与一下游侧，其中该下游侧具有一基本上内凹的弯曲性。