发明名称 |
基于金红石相TiO<SUB>2</SUB>的可钢化低辐射镀膜玻璃及其工艺 |
摘要 |
本发明提供一种低辐射镀膜玻璃,在镀膜后可以进行钢化处理工艺,而不对外观、光学性能和热学性能产生影响;利用双极脉冲电源溅射技术生产的金红石相的TiO<SUB>2</SUB>作为基层电介质层,其中:基层电介质层由两层构成,一层是采用双极中频脉冲电源沉积的金红石结构的二氧化钛TiO<SUB>2</SUB>,另一层为ZnO;合理选择其他各层的厚度和膜层成分,生产出可以进行高温热处理的低辐射镀膜玻璃。 |
申请公布号 |
CN1331794C |
申请公布日期 |
2007.08.15 |
申请号 |
CN200510028803.9 |
申请日期 |
2005.08.15 |
申请人 |
上海耀华皮尔金顿玻璃股份有限公司;上海耀皮工程玻璃有限公司 |
发明人 |
王茂良;安吉申;吴斌;张建军;潘浩军 |
分类号 |
C03C17/34(2006.01);C03C17/06(2006.01);C03C17/23(2006.01);C23C14/34(2006.01) |
主分类号 |
C03C17/34(2006.01) |
代理机构 |
上海东亚专利商标代理有限公司 |
代理人 |
罗习群 |
主权项 |
1.一种基于金红石相TiO2的可钢化低辐射镀膜玻璃,其特征在于,该玻璃的膜层结构为:基层电介质层/银层/阻隔层/上层电介质层;基层电介质层由两层构成,一层是采用双极中频脉冲电源沉积的金红石结构的氧化钛TiO2,另一层为氧化锌ZnO;氧化钛TiO2的膜层厚度为25nm~30nm;氧化锌ZnO的膜层厚度为4nm~6nm;银层:膜层厚度为12nm;阻隔层:主要材料为镍铬合金,膜层厚度为2~3nm;上层电介质层:膜层厚度为25~30nm。 |
地址 |
201315上海市浦东康桥工业区康柳路75号 |