发明名称 改良式发光装置
摘要 本创作系提供一种发光装置,其具有单纯结构且容易组装,同时可有效地产生光线并引导该些光线至欲照明之区域,其包括:一基板,可电性连接至一电源;复数个发光元件,设于该基板之一侧面上;一反射部件,设于该些发光元件之上方并具有一相对于该些发光元件之反光表面;一罩体,其具有一相对于该反光表面之扩散表面。该发光装置可进一步包括一壳体,以用于容纳及支撑该基板与反射部件,并可与该罩体接合,以将该发光装置与欲照明之外部装置衔接。其中,自该些发光元件所射出之光线系经由该反射部件之反光表面折射至该扩散表面而朝该罩体之外侧射出。反光表面与基板形成有一倾角,且其角度可依设计需求而不同,以有效地反射及引导该些光线至欲照明区域。
申请公布号 TWM317076 申请公布日期 2007.08.11
申请号 TW095217541 申请日期 2006.09.29
申请人 连营科技股份有限公司 发明人 郭晃祯;黄振源;王正明;谈子畅;谢昆翰;张凯旗
分类号 H01L33/00(2006.01) 主分类号 H01L33/00(2006.01)
代理机构 代理人 李贵敏 台北市松山区敦化北路168号15楼
主权项 1.一种发光装置,包括: 一基板; 复数个发光元件,设于该基板之一侧面上; 一反射部件,设于该些发光元件之上方并具有一相 对于该些发光元件之反光表面; 一罩体,其具有一相对于该反光表面之扩散部件; 及 其中,该扩散部件包含有一相对于该反光表面之扩 散表面;自该些发光元件所射出之光线系经由该反 射部件之反光表面折射至该扩散表面而朝该罩体 之外侧射出。 2.如申请专利范围第1项所述之发光装置,其中该反 射部件之反光表面系与设有该些发光元件之该基 板形成有一角度,即反射表面与基板两者间之夹角 角度。 3.如申请专利范围第1项所述之发光装置,其中该反 射部件进一步包含一大致平行于该基板之底面,以 利于该反射部件与该基板之接合。 4.如申请专利范围第2项所述之发光装置,其中该角 度系介于5与90之间。 5.如申请专利范围第1项所述之发光装置,其中该罩 体覆盖该基板及反射部件之至少部份。 6.如申请专利范围第1项所述之发光装置,其中该些 发光元件系以等距间隔及彼此对齐之方式配设于 该基板上。 7.如申请专利范围第1项所述之发光装置,其中该罩 体系经组态进一步设有至少一凹槽,以提供空气之 对流,使该罩体之内部温度不至过高而引响该基板 及反射部件之正常运作或结构。 8.如申请专利范围第1项所述之发光装置,其中该罩 体与其扩散部件系一体成型。 9.如申请专利范围第1或3项所述之发光装置,其中 该反射部件之该底面与该基板之接合,系以螺丝锁 付方式接合。 10.如申请专利范围第1或3项所述之发光装置,其中 该反射部件之该底面进一步设有一附着层,以用于 黏性接合该反射部件于该基板上。 11.如申请专利范围第1或5项所述之发光装置,其中 该罩体系经组态可完全覆盖及容纳该基板与该反 射部件于其中。 12.一种发光装置,包括: 一基板; 复数个发光元件,设于该基板之一侧面上; 一光线反射罩体,设于该些发光元件之上方,并包 含一反射部件及一扩散部件;及 其中,该反射部件具有一反光表面,相对于该些发 光元件;该扩散部件具有一相对于该反光表面之扩 散表面;因此,自该些发光元件所射出之光线系经 由该反射部件之反光表面折射至该扩散表面而朝 该罩体之外侧射出。 13.如申请专利范围第12项所述之发光装置,其中该 光线反射罩体之反光表面系与设有该些发光元件 之该基板形成有一角度,即反射表面与基板两者间 之夹角角度。 14.如申请专利范围第12项所述之发光装置,其中该 反射部件进一步包含一大致平行于该基板之底面, 以利于该反射部件与该基板之接合。 15.如申请专利范围第13项所述之发光装置,其中该 角度系介于5与90之间。 16.如申请专利范围第12项所述之发光装置,其中该 罩体覆盖该基板及反射部件之至少部份。 17.如申请专利范围第12项所述之发光装置,其中该 些发光元件系以等距间隔及彼此对齐之方式配设 于该基板上。 18.如申请专利范围第12项所述之发光装置,其中该 光线反射罩体系经组态进一步设有至少一凹槽,以 提供空气之对流,使该光线反射罩体之内部温度不 至过高而引响该基板之正常运作或其结构。 19.如申请专利范围第12项所述之发光装置,其中该 光线反光罩体、该扩散部件及反射部件系一体成 型。 20.如申请专利范围第12或14项所述之发光装置,其 中该反射部件之该底面与该基板之接合,系以螺丝 锁付方式接合。 21.如申请专利范围第12或14项所述之发光装置,其 中该反射部件之该底面进一步设有一附着层,以用 于黏性接合该反射部件于该基板上。 22.如申请专利范围第12或16项所述之发光装置,其 中该罩体系经组态可完全覆盖及容纳该基板于其 中。 23.一种发光装置,包括: 一壳体; 一基板,设于该壳体内部; 复数个发光元件,设于该基板之一侧面上; 一反射部件,设于该些发光元件之上方并具有一相 对于该些发光元件之反光表面; 一罩体,其具有一相对于该反光表面之扩散部件, 并经组态可接合于该壳体上;及 其中,该扩散部件包含有一相对于该反光表面之扩 散表面;自该些发光元件所射出之光线系经由该反 射部件之反光表面折射至该扩散表面而朝该罩体 之外侧射出。 24.如申请专利范围第23项所述之发光装置,其中该 反射部件之反光表面系与设有该些发光元件之该 基板形成有一角度,即反射表面与基板两者间之夹 角角度。 25.如申请专利范围第23项所述之发光装置,其中该 反射部件进一步包含一大致平行于该基板之底面, 以利于该反射部件与该基板之接合。 26.如申请专利范围第24项所述之发光装置,其中该 角度系介于5与90之间。 27.如申请专利范围第23项所述之发光装置,其中该 壳体进一步包含至少一紧固部件,以用于紧固该基 板于该壳体中。 28.如申请专利范围第23项所述之发光装置,其中该 反射部件经组态而可藉由该些紧固部件,紧固地接 合于该基板上。 29.如申请专利范围第23项所述之发光装置,其中该 壳体进一步包含至少一支撑部件,以用于支撑该基 板,使其与该壳体之底部维持大致相同之距离。 30.如申请专利范围第23项所述之发光装置,其中该 罩体系经组态与该壳体接合,以覆盖该壳体、基板 及反射部件之至少部份。 31.如申请专利范围第23项所述之发光装置,其中该 罩体系经组态进一步设有至少一凹槽,以提供空气 之对流,使该罩体之内部温度不至过高而引响该基 板及反射部件之正常运作或结构。 32.如申请专利范围第23项所述之发光装置,其中该 壳体系经组态设有至少一镂空部份,以提供空气之 对流,使该壳体之内部温度不至过高而引响该基板 及反射部件之结构或运作。 33.如申请专利范围第23或30项所述之发光装置,其 中该罩体与该壳体之接合方式系以卡榫可分离式 地扣合。 34.如申请专利范围第23项所述之发光装置,其中该 罩体与该扩散部件系一体成型。 35.如申请专利范围第23或34项所述之发光装置,其 中该罩体、该扩散部件与反射部件系一体成型。 36.如申请专利范围第27或28项所述之发光装置,其 中该紧固部件系一螺丝,以螺旋锁付方式可分离式 地紧固。 37.如申请专利范围第27或28项所述之发光装置,其 中该紧固部件系一卡榫,以扣合方式可分离式地紧 固。 38.如申请专利范围第23或25项所述之发光装置,其 中该反射部件之该底面进一步设有一附着层,以用 于黏接该反射部件于该基板上。 39.如申请专利范围第23项所述之发光装置,其中该 壳体系经组态设有至少一衔接部件,该壳体可藉由 该衔接部件与一欲照明装置接合。 40.如申请专利范围第39项所述之发光装置,其中该 衔接部件系一螺丝,以螺旋锁付方式可分离式地彼 此接合。 41.如申请专利范围第39项所述之发光装置,其中该 衔接部件系一卡榫,以扣合方式可分离式地彼此接 合。 图式简单说明: 第1图系本创作发光装置之第一实施例之分解立体 图。 第2图系本创作发光装置之第一实施例之分解侧视 图。 第3图系本创作发光装置之第二实施例之立体图。 第4图系本创作发光装置之第二实施例之侧视图。 第5图系本创作发光装置之第三实施例之分解立体 图。 第6图系本创作发光装置之第三实施例之分解侧视 图。
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