| 主权项 |
1.一种微影用之光罩,其包括; 一遮光区; 具有不同透光率的穿透区及半穿透区; 其中,上述穿透区之折射率为n1、半穿透区之折射 率为n2、膜厚为d、曝光用之光波长为,系以满足 (m-1/8)≦(n2/n1-1)d≦(m+1/8)[m为整数]之方式设定 前述折射率n2及膜厚d; 穿过上述穿透区之相邻穿透区的光相位差为(-1/4+2 m).以上、(1/4+2 m).以下,其中m为整数; 同时设定半穿透区之折射率n2、膜厚d以及衰减系 数,使上述半穿透区之穿透率成为特定穿透率。 2.一种以微影用之光罩形成薄膜的方法,该光罩包 含一遮光区,具有不同透光率的穿透区及半穿透区 ;其中在该微影用之光罩中,上述穿透区之折射率 为n1、半穿透区之折射率为n2、膜厚为d、曝光用 之光波长为,其系以满足(m-1/8)≦(n2/n1-1)d≦(m+1 /8)[m为整数]之方式设定前述折射率n2及膜厚d;穿 过上述穿透区之相邻穿透区的光相位差为(-1/4+2 m) .以上、(1/4+2 m).以下,其中m为整数;同时设定 半穿透区之折射率n2、膜厚d以及衰减系数,使上述 半穿透区之穿透率成为特定穿透率。 3.如申请专利范围第2项之形成薄膜的方法,其中该 微影用之光罩的位置可在其与欲进行薄膜形成作 业的元件之间提供大小介于50 m及500 m之间(含 )的间隙。 4.一种制造液晶显示器装置的方法,其包括下面的 步骤: 实施微影制程,其中会使用微影用之光罩来实施曝 光,该光罩包含一遮光区,具有不同透光率的穿透 区及半穿透区;其中在该微影用之光罩中,上述穿 透区之折射率为n1、半穿透区之折射率为n2、膜厚 为d、曝光用之光波长为,其系以满足(m-1/8)≦( n2/n1-1)d≦(m+1/8)[m为整数]之方式设定前述折射率 n2及膜厚d;穿过该等复数个穿透区之相邻穿透区的 光相位差为(-1/4+2m).以上、(1/4+2m).以下,其中m 为整数;同时设定半穿透区之折射率n2、膜厚d以及 衰减系数,使上述半穿透区之穿透率成为特定穿透 率。 5.如申请专利范围第4项之制造液晶显示器装置的 方法,其中该微影用之光罩的位置可在其与欲进行 薄膜形成作业的元件之间提供大小介于50 m及500 m之间(含)的间隙。 6.一种液晶显示器装置,其包括: 一具有多阶层构造之薄膜图案的基板,其系于单一 制程中,使用一微影用之光罩进行曝光所制成,于 其上形成一薄膜图案,该光罩包含一遮光区,具有 不同透光率的穿透区及半穿透区;其中在该微影用 之光罩中,上述穿透区之折射率为n1、半穿透区之 折射率为n2、膜厚为d、曝光用之光波长为,其系 以满足(m-1/8)≦(n2/n1-1)d≦(m+1/8)[m为整数]之方 式设定前述折射率n2及膜厚d;穿过上述穿透区之相 邻穿透区的光相位差为(-1/4+2 m).以下、(1/4+2 m). 以上,其中m为整数;同时设定半穿透区之折射率n 2、膜厚d以及衰减系数,使上述半穿透区之穿透率 成为特定穿透率。 7.如申请专利范围第6项之液晶显示器装置,其中可 利用该微影用之光罩进行曝光形成该薄膜图案,该 微影用之光罩的位置可在其与欲进行薄膜形成作 业的元件之间提供大小介于50 m及500 m之间(含 )的间隙。 8.一种微影用之光罩,其包括; 一遮光区;及 复数个穿透区; 其中,可随意设定穿过该等复数个穿透区之相邻穿 透区的光相位差,使得薄膜图案中的阶层数量大于 等于所形成的穿透区数量。 9.如申请专利范围第8项之微影用之光罩,其中该等 复数个区域包含具有不同透光率的复数个穿透区 。 10.一种形成薄膜的方法,其包括: 一使用微影用之光罩的曝光步骤,用以形成一薄膜 图案,使得其中的阶层数量大于等于穿透区数量, 其中该光罩包含一遮光区及复数个穿透区,以及其 中可随意设定穿过该等复数个穿透区之相邻穿透 区的光相位差。 11.如申请专利范围第10项之形成薄膜的方法,其中 该等复数个区域包含具有不同透光率的复数个穿 透区。 12.如申请专利范围第10项之形成薄膜的方法,其中 该微影用之光罩的位置可在其与欲进行薄膜形成 作业的元件之间提供大小介于50 m及500 m之间( 含)的间隙。 13.一种制造液晶显示器装置的方法,其包括下面的 步骤: 实施一微影制程,其中可使用微影用之光罩进行曝 光,以形成一薄膜图案,使得其中的阶层数量大于 等于穿透区数量,其中该微影用之光罩包含一遮光 区及复数个穿透区,以及其中可随意设定穿过该等 复数个穿透区之相邻穿透区的光相位差。 14.如申请专利范围第13项之制造液晶显示器装置 的方法,其中该等复数个区域包含具有不同透光率 的复数个穿透区。 15.如申请专利范围第13项之制造液晶显示器装置 的方法,其中该微影用之光罩的位置可在其与欲进 行薄膜形成作业的元件之间提供大小介于50 m及 500 m之间(含)的间隙。 16.一种液晶显示器装置,其包括: 一基板,可于其上利用一微影用之光罩进行曝光以 形成一薄膜图案,该薄膜图案中的阶层数量大于等 于穿透区数量,该光罩包含一遮光区及复数个穿透 区,其中可随意设定穿过该等复数个穿透区之相邻 穿透区的光相位差。 17.如申请专利范围第16项之液晶显示器装置,其中 该等复数个穿透区域包含具有不同透光率的穿透 区。 18.如申请专利范围第16项之液晶显示器装置,其中 可利用该微影用之光罩进行曝光形成该薄膜图案, 该微影用之光罩的位置可在其与欲进行薄膜形成 作业的元件之间提供大小介于50 m及500 m之间( 含)的间隙。 图式简单说明: 图1所示的系应用本发明之使用光罩的微影制程示 意图; 图2为该光罩的仰视图; 图3所示的系穿过该光罩之透光示意图; 图4为穿过该光罩之透光的光强度分布特征关系图 ; 图5为利用图4所示之光强度分布沉积而成之薄膜 图案的剖面图; 图6为穿过该光罩之透光的光强度分布特征关系图 ; 图7为利用图6所示之光强度分布沉积而成之薄膜 图案的剖面图; 图8A至8D为穿过该光罩之透光的光强度分布特征关 系图; 图9为利用穿透部分及半穿透部分之间没有光相位 差的光罩沉积而成之薄膜图案的特定范例剖面图; 图10为利用该光罩沉积而成之薄膜图案的另一特 定范例剖面图; 图11为利用该光罩沉积而成之薄膜图案的另一特 定范例剖面图; 图12为利用随意设定穿透部分及半穿透部分之间 光相位差的光罩沉积而成之薄膜图案的特定范例 剖面图; 图13为利用该光罩沉积而成之薄膜图案的另一特 定范例剖面图; 图14A至14C为阐述根据本发明之形成薄膜方法之薄 膜沉积步骤剖面图;及 图15为应用本发明之液晶显示器装置之一般结构 剖面图。 |
