| 主权项 |
1.一种基板处理装置,包括: 基板搬送装置,支承着在主面上附着了处理液的基 板并向水平方向搬送; 处理室,封闭性地包围由该基板搬送装置搬送的基 板的周围; 风刀,在该处理室的内部,以与基板搬送方向交叉 的方式配置,并包括喷射口,该喷射口对由上述基 板搬送装置搬送的基板的主面,在其整个宽度方向 上,向基板搬送方向的上游侧喷射气体, 其特征在于: 包括排气装置,该排气装置在上述处理室的相对于 基板搬送路线而配置了上述风刀的空间侧,并且在 风刀配置位置的基板搬送方向上游侧设置有排气 口,同时,在上述处理室的内部,在垂直方向上竖立 设置有使从上述风刀的喷射口喷射而吹拂到基板 的主面上的气体向上述排气口流动的多张整流板, 该排气装置通过上述排气口进行排气。 2.如申请专利范围第1项所述的基板处理装置,其中 上述风刀配置于在俯视下相对于基板搬送方向而 倾斜的方向上,同时,上述多张整流板分别配置于 在俯视下相对于上述风刀而大致垂直的方向上。 3.如申请专利范围第1或2项所述的基板处理装置, 其中上述风刀隔着基板搬送路线而在其上、下两 侧配置有一对,上述排气口分别设置在上述处理室 的基板搬送路线的上方空间侧以及下方空间侧,同 时,上述多张整流板配置在上述处理室的基板搬送 路线的下方侧空间中。 4.如申请专利范围第3项所述的基板处理装置,其中 以在上述风刀的配置位置处将上述处理室的基板 搬送路线的上方侧空间分隔成基板搬送方向的上 游侧和下游侧的方式配置有内部间隔壁。 5.如申请专利范围第3项所述的基板处理装置,其中 在上述各整流板的上端部分别安装有辅助辊,该辅 助辊与由上述基板搬送装置搬送的基板的下表面 接触而支承基板。 6.如申请专利范围第4项所述的基板处理装置,其中 在上述各整流板的上端部分别安装有辅助辊,该辅 助辊与由上述基板搬送装置搬送的基板的下表面 接触而支承基板。 图式简单说明: 图1表示本发明的实施形态的一个例子,是表示作 为基板处理装置的除液装置的概略结构的侧面剖 视图。 图2是从基板搬送面向下看到的图1所示的除液装 置的处理室的内部的概略俯视图。 图3是表示图1所示的除液装置的处理室内部的概 略侧视图。 图4是表示图1所示的除液装置的构成要素之一的 整流板的结构例的主视图。 图5表示本发明的其他的实施形态,是从基板搬送 面向下看到的除液装置的处理室的内部的概略俯 视图。 图6表示本发明的另外的实施形态,是从基板搬送 面向下看到的除液装置的处理室的内部的概略俯 视图。 |
