发明名称 |
磁记录介质、磁存储装置和制造磁记录介质的方法 |
摘要 |
一种制造磁记录介质的方法,该方法包括在基底上形成底层,然后在底层上依次形成第一磁性层、非磁性耦合层和第二磁性层。第一和第二磁性层通过非磁性耦合层交换耦合,并且在磁记录介质上没有施加外部磁场的状态下具有反平行的磁化。底层在包含氮气的气氛中由具有bcc晶体结构的Cr或Cr合金制成。 |
申请公布号 |
CN1331116C |
申请公布日期 |
2007.08.08 |
申请号 |
CN200510007029.3 |
申请日期 |
2005.02.02 |
申请人 |
富士通株式会社 |
发明人 |
村尾玲子;铃木政也 |
分类号 |
G11B5/84(2006.01);G11B5/66(2006.01) |
主分类号 |
G11B5/84(2006.01) |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 |
代理人 |
丁香兰 |
主权项 |
1、一种制造磁记录介质的方法,该方法包括以下步骤:(a)在基底上形成第一底层;和(b)在第一底层上依次形成第一磁性层、非磁性耦合层和第二磁性层,所述第一和第二磁性层通过非磁性耦合层交换耦合,并且在磁记录介质上没有施加外部磁场的状态下具有反平行的磁化,其特征在于,所述步骤(a)通过添加氮气的量在0.01体积%到0.50体积%的范围内而在包含氮气的气氛中用具有bcc晶体结构的Cr或Cr合金形成第一底层。 |
地址 |
日本神奈川县川崎市 |