发明名称 光头及图像形成装置
摘要 在光头(10)中,在一个方向上重复排列多个单位区域(ER),该单位区域形成有:电流驱动型的发光元件(E);控制晶体管(Tc),其与发光元件(E)并联连接,在接收对发光元件(E)指定高灰度的灰度数据(D)时处于截止状态,另一方面在接收对发光元件(E)指定低灰度的灰度数据时处于导通状态;和驱动晶体管(Tdr),其与发光元件(E)串联连接并且生成驱动发光元件(E)的电流。此外,单位区域(UR)的每一个中,形成在该单位区域(UR)的发光元件(E)和形成在该单位区域(UR)的控制晶体管(Tc)之间的热阻抗,比该发光元件(E)和形成在该单位区域(UR)相邻的单位区域(UR)的控制晶体管(Tc)之间的热阻抗小。从而,在光头中,降低基于热量干扰的灰度不均。
申请公布号 CN101011888A 申请公布日期 2007.08.08
申请号 CN200710004794.9 申请日期 2007.01.30
申请人 精工爱普生株式会社 发明人 石黑英人
分类号 B41J2/447(2006.01);G03G15/04(2006.01);G03G15/043(2006.01) 主分类号 B41J2/447(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 汪惠民
主权项 1、一种光头,在一个方向上重复排列多个单位区域,该单位区域上形成有:发光元件,其通过电流驱动而发光;控制晶体管,其与上述发光元件并联连接,在接收对上述发光元件指定高灰度的灰度数据时处于截止状态,另一方面在接收对上述发光元件指定低灰度的灰度数据时处于导通状态;和驱动晶体管,其与上述发光元件串联连接,生成驱动上述发光元件的电流,在上述多个单位区域的每一个中,形成在该单位区域的上述发光元件与形成在该单位区域的上述控制晶体管之间的热阻抗,比该发光元件与形成在该单位区域相邻的单位区域的上述控制晶体管之间的热阻抗小。
地址 日本东京
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