发明名称 |
光浴法培育高质量高氘量DKDP晶体的装置 |
摘要 |
本发明公开了一种光浴法培育高质量高氘量DKDP晶体的装置。它解决了目前人工晶体的生成装置温度控制精度低,含氘量易受影响等问题,具有结构简单,使用方便,能有效保证晶体生成所需的氘量,并能提高温控精度等优点。其结构为:它有外壳,其内设有晶体生成容器,所述晶体生成容器为透明容器,在其外壁上布满反射层,在透明容器底部设有光加热装置,该装置与温度控制装置连接。 |
申请公布号 |
CN101012572A |
申请公布日期 |
2007.08.08 |
申请号 |
CN200610170955.7 |
申请日期 |
2006.12.27 |
申请人 |
钟毅;钟鸣 |
发明人 |
钟毅;钟鸣 |
分类号 |
C30B7/00(2006.01);C30B35/00(2006.01) |
主分类号 |
C30B7/00(2006.01) |
代理机构 |
济南圣达专利商标事务所 |
代理人 |
张勇 |
主权项 |
1、一种光浴法培育高质量高氘量DKDP晶体的装置,它有外壳(1),其内设有晶体生成容器,其特征是:所述晶体生成容器为透明容器(2),在其外壁上设有反射层(3),其底部则设有光加热装置,该装置与温度控制装置连接。 |
地址 |
250021山东省济南市槐荫区经四路453号楼1单元502号 |