发明名称 图案化方法及装置、膜形成方法及装置、电光学装置及其制法
摘要 提供一种材料选择自由度高的新颖的图案化方法,同时提供一种膜形成方法、图案化装置、膜形成装置、电光学装置及其制造方法、电子仪器、和电子装置及其制造方法。具备能调整到高真空度的真空腔室(2),与材料供给源(7)连接并安装在真空腔室(2)上、向该真空腔室(2)内供给材料供给源(7)中材料的喷嘴(3),和设置在真空腔室(2)内保持固定基体S的基体载物台(4)构成的图案化装置(1)。在喷嘴(3)或基体载物台(4)上设有使其相对位置移动的移动机构(11)。理想上最好生成材料分子的自由喷射,利用这种自由喷射图案化(自由喷射图案化)。这样更高精度的图案化成为可能。
申请公布号 CN101013746A 申请公布日期 2007.08.08
申请号 CN200610162415.4 申请日期 2002.09.12
申请人 精工爱普生株式会社 发明人 宫泽贵士
分类号 H01L51/56(2006.01);H01L51/00(2006.01);H01L21/00(2006.01);C23C14/04(2006.01) 主分类号 H01L51/56(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 汪惠民
主权项 1、一种图案化装置,其特征在于:其中具备能够调整压力的真空腔室,与材料供给源连接并安装在上述真空腔室、将来自上述材料供给源的材料喷出在上述真空腔室内的喷嘴,和设置在上述真空腔室内保持固定基体的基体载物台,在上述喷嘴或上述基体载物台上设有使上述喷嘴和上述基体载物台间相对位置移动的移动机构,在上述喷嘴和上述基体的相对位置不同的多个位置处,从上述喷嘴喷出上述材料。
地址 日本东京