| 发明名称 | 基板处理装置 | ||
| 摘要 | 一种基板处理装置，具有：分度器区、反射防止膜用处理区、抗蚀膜用处理区、显影处理区、抗蚀盖膜用处理区、抗蚀盖膜除去区、清洗/干燥处理区以及接口区。以与基板处理装置的接口区相邻的方式配置有曝光装置。在曝光装置中，通过浸液法来进行基板的曝光处理。在清洗/干燥处理区的端部清洗单元中，清洗刷与旋转的基板的端部相抵接，来清洗曝光处理前的基板的端部。此时，修正基板的清洗位置。 | ||
| 申请公布号 | CN101013659A | 申请公布日期 | 2007.08.08 |
| 申请号 | CN200710006705.4 | 申请日期 | 2007.02.02 |
| 申请人 | 大日本网目版制造株式会社 | 发明人 | 金山幸司;金冈雅;宫城聪;茂森和士;安田周一;滨田哲也 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/67(2006.01);H01L21/68(2006.01);H01L21/30(2006.01);H01L21/306(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王玉双 |
| 主权项 | 1.一种基板处理装置，相邻于曝光装置而配置，其特征在于，具有：处理部，其对基板进行处理；交接部，其相邻于上述处理部的一端部而设置，用于在上述处理部和上述曝光装置之间进行基板的交接，上述处理部以及上述交接部中的至少一个包括第一处理单元，该第一处理单元在通过上述曝光装置进行曝光处理前清洗基板的端部，上述第一处理单元具有：基板保持装置，其将基板保持为大致水平；旋转驱动机构，其使由上述基板保持装置保持的基板以与该基板垂直的轴为中心进行旋转；清洗装置，其清洗通过上述旋转驱动机构而被旋转的基板的端部；位置修正装置，其修正由上述清洗装置对基板进行清洗的清洗位置。 | ||
| 地址 | 日本京都府京都市 | ||