发明名称 |
透明基底上的装置及对准标记形成方法与微机电系统装置 |
摘要 |
本发明揭示一种透明基底上的装置及对准标记形成方法与微机电系统装置,特别涉及一种在透明基底上形成对准标记的方法及系统。在一晶圆的光学透明基底上沉积一光反射层。在光学透明基底上定义围绕一对准标记的一区域。去除透明基底上该区域以外绝大部分的光反射层。另外,本发明所揭示的微机电系统装置,包括一光学透明基底、位于光学透明基底上至少一部分光学透明对准标记以及多个反射元件或影像像素贴附于光学透明基底上。本发明所提供的透明基底上的装置及对准标记形成方法与微机电系统装置,可提供更准确的晶圆对准,在光学透明基底的对准结合时提供更坚固的反射元件,且使镜面投影器具有平稳的对比率及灰阶。 |
申请公布号 |
CN101013197A |
申请公布日期 |
2007.08.08 |
申请号 |
CN200710007514.X |
申请日期 |
2007.01.30 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
张瑞鸿;李雅雯;吴子扬;潘升良;林进祥;高蔡胜 |
分类号 |
G02B26/10(2006.01);B81B7/02(2006.01);B81C1/00(2006.01) |
主分类号 |
G02B26/10(2006.01) |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所 |
代理人 |
刘新宇 |
主权项 |
1.一种透明基底上对准标记形成方法,其特征在于,包括:提供一对准标记于一光学透明基底中;在该光学透明基底上沉积一光反射层;在该光学透明基底上定义围绕该对准标记的一区域;以及去除该光学透明基底上该区域以外的光反射层部分。 |
地址 |
台湾省新竹 |