Alkaline post-chemical mechanical planarization cleaning compositions,申请号EP20050005599-传众专利搜索

发明名称	Alkaline post-chemical mechanical planarization cleaning compositions
摘要
申请公布号	EP1577934(B1)	申请公布日期	2007.08.08
申请号	EP20050005599	申请日期	2005.03.15
申请人	AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.	发明人	CHANDRAKANT TAMBOLI, DNYANESH;BANERJEE, GAUTAM
分类号	C11D3/26;H01L21/306;C11D3/20;C11D3/30;C11D3/33;C11D3/34;C11D7/26;C11D7/32;C11D11/00;C23G5/024;C23G5/036;H01L21/02;H01L21/304	主分类号	C11D3/26
代理机构		代理人
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