发明名称 IMPROVED CONTACT AND DEEP TRENCH PATTERNING
摘要
申请公布号 KR100747297(B1) 申请公布日期 2007.08.08
申请号 KR20000000401 申请日期 2000.01.06
申请人 发明人
分类号 H01L21/027;H01L21/302;G03F7/40;H01L21/28;H01L21/3065;H01L21/311;H01L21/762;H01L21/768 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利