发明名称 基于流体流动的水处理工艺及其装置
摘要 本发明涉及一种水处理装置。所述水处理装置包括:反应槽,其内部通过污废水流入管和散气装置流入污废水和空气;污泥分离装置,其将所述反应槽的内部区分为上下至少两层,以增加污废水和气泡的接触面积,进而增加溶解氧量,并且形成滞留空间以捕集空气,从而将污废水和空气互相分离,进而使污废水和空气中所含有的污泥基于各自的密度差而上升,以此可分离污染物;空气排放口,其安装在所述反应槽上,用于将通过所述污泥分离装置的气泡排出至所述反应槽的外部;处理水排放口,其安装在所述反应槽上,用于将通过所述污泥分离装置所处理的污废水排出至外部;沉淀槽,安装在所述反应槽底部,其用于浓缩及排出已沉淀的污泥。
申请公布号 CN101014544A 申请公布日期 2007.08.08
申请号 CN200480043358.7 申请日期 2004.06.15
申请人 埃科戴斯有限公司 发明人 崔鸿福
分类号 C02F9/00(2006.01) 主分类号 C02F9/00(2006.01)
代理机构 北京金信立方知识产权代理有限公司 代理人 黄威;杨小蓉
主权项 1.一种水处理装置,其特征在于,包括:反应槽,其内部通过污废水流入管及散气装置流入污废水及空气;污泥分离装置,其将所述反应槽内部区分为上下至少二层,以增加污废水和气泡的接触面积,进而增加溶解氧量,并由于各层水面部位的物质依次朝上方移动,从而通过密度差来分离相对较轻的物质而分解污染物;空气排放口,其安装在所述反应槽上,并将通过所述污泥分离装置的气泡排放到反应槽的外部;处理水排放口,其安装在所述反应槽上,并将通过污泥分离装置而得到处理的污废水排放到外部;沉淀槽,其安装在所述反应槽的下部,用于浓缩及排放被沉积的污泥。
地址 韩国首尔市