发明名称 |
用于测量垂直于扫描束或带状束平面的束角度和散度的装置和方法 |
摘要 |
本发明通过得到入射角值和垂直于扫描束平面的离子束的散度而方便于半导体器件的制造。采用包括掩模(310)和剖面仪/传感器(314)的散度探测器以便从入射的离子束(308)得到细束(312),然后在多个垂直位置(316,318)处测量束电流。然后使用这些束电流测量结果来提供垂直入射角的值,其提供了用于表征离子束的垂直散度剖面仪。离子束产生装置采用这些值以便在该值表示与预期值的偏移时对产生的离子束或工件的位置进行调节。 |
申请公布号 |
CN101015033A |
申请公布日期 |
2007.08.08 |
申请号 |
CN200580030043.3 |
申请日期 |
2005.07.07 |
申请人 |
艾克塞利斯技术公司 |
发明人 |
R·拉思梅尔;D·布朗;A·雷 |
分类号 |
H01J37/317(2006.01);H01J37/304(2006.01);H01J37/244(2006.01) |
主分类号 |
H01J37/317(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
王庆海;王忠忠 |
主权项 |
1、一种离子注入系统,包括:离子束产生装置,其产生离子束并将其引向目标晶片,并在水平方向上扫描该目标晶片;支撑目标晶片并在垂直方向上移动目标晶片穿过离子束的位于离子束下游的组件;和位于离子束下游的散度探测器,其得到离子束的垂直入射角的值并由此得到垂直轮廓,其中散度探测器包括从离子束选择性地得到细束的掩模和在多个垂直位置处测量束电流以得到垂直入射角的值的传感器。 |
地址 |
美国马萨诸塞州 |