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经营范围
发明名称
Verfahren zum Herstellen von Masken fuer die Verwendung in der Halbleitertechnik
摘要
申请公布号
DE1521997(A1)
申请公布日期
1970.02.05
申请号
DE19661521997
申请日期
1966.09.02
申请人
SIEMENS AG
发明人
D MURRMANN,DIPL.-PHYS.DR. HELMUTZ,WIDMANN,DR.-ING.
分类号
G03F1/54;G03F1/80
主分类号
G03F1/54
代理机构
代理人
主权项
地址
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