| 主权项 |
1.一种微影投影装置,其包括: - 一辐射系统,其系用于提供一辐射投影光束; - 一支撑结构,其系用以支撑图案化构件,该图案化 构件则系用来根据所需图案将投影光束图案化; - 一基板台,其系用以支撑一基板; - 一投影系统,其系用以将该图案化光束投影于该 基板之一目标部分;及 - 一平面磁性定位构件,其系用以使该基板台于一 平面内定位; 其特征为以一机械限制器限制该基板台绕着正交 于该平面之各轴线转动。 2.如申请专利范围第1项之微影投影装置,其中该机 械限制器在限制该基板台绕着该方向转动之前,仍 允许该基板台绕着该方向转动达10,较佳为5,而以 3最佳。 3.如申请专利范围第1或2项之微影投影装置,其中 该基板台系可由该平面磁性定位构件在该平面中 定位,而大体上不受该机械限制器之干预。 4.如申请专利范围第1或2项之微影投影装置,其中 该机械限制器与该基板台以至少两个位置相连。 5.如申请专利范围第1或2项之微影投影装置,其中 无论该基板台之位置如何移动,该机械限制器皆可 让该基板台拥有实质上相等的转动量。 6.如申请专利范围第1或2项之微影投影装置,其中 该机械限制器系于一端连接至该基板台,另一端则 连接至可以一个自由度在该平面上,相对于该平面 磁性定位构件移动的一传动器。 7.如申请专利范围第6项之微影投影装置,其中该机 械限制器包括一伸长构件,以及可在该伸长构件上 沿着其延伸方向滑动,且部分环绕该伸长构件的一 套筒,该伸长构件与套筒的其中之一系连接至该传 动器,而该伸长构件与套筒中之另一则系连接至该 基板台。 8.如申请专利范围第6项之微影投影装置,其中该机 械限制器包括至少一对交叉伸长臂,该交叉伸长臂 的个别伸长臂互相以一中间部位作为枢轴。 9.一种装置之制造方法,包括下列步骤: - 制备至少部分由一层对辐射敏感材料所覆盖的 一基板; - 将该基板支撑于一基板台上; - 以一平面磁性定位构件使该基板台于一平面内 定位; - 利用一辐射系统提供一辐射投影光束; - 利用图案化构件赋予该投影光束一图案式之断 面; - 将该图案化之辐射光束投影至该辐射敏感材料 层之一目标部分, - 其特征为以一机械限制器限制该基板台绕着正 交于该平面之各轴线转动的步骤。 10.如申请专利范围第9项之方法,其中该限制转动 之步骤系在该基板台绕着该方向转动超过10之后 。 图式简单说明: 图1显示依据本发明的一项具体实施例之一微影投 影装置; 图2之平面图显示一基板台及本发明之第一项具体 实施例的平面磁性定位构件; 图3之平面图显示一基板台及本发明之第二项具体 实施例的平面磁性定位构件;以及 图4a与b之平面图显示一基板台及本发明之第三项 具体实施例的平面磁性定位构件。 |
