发明名称 去光阻剂
摘要 本发明提供一种用以清洗光阻剂,特别是清洗彩色滤光片制程中所使用之颜料分散型光阻剂的去光阻剂。本发明去光阻剂包含10-70重量百分比之乙酸乙二醇丁醚酯(PGMEA)、10-80重量百分比之具有6-10个碳原子的苯环化合物,及/或10-40重量百分比之酮系化合物。本发明之去光阻剂与光阻剂之亲和性高,因此对于光阻剂有良好的溶解清洗力,故能达到快速清洗并降低有机溶剂使用量之功效。
申请公布号 TWI284789 申请公布日期 2007.08.01
申请号 TW094132307 申请日期 2005.09.19
申请人 李长荣化学工业股份有限公司 发明人 刘兴基;吴宗翰;周世明;陈宏成
分类号 G03F7/32(2006.01) 主分类号 G03F7/32(2006.01)
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项 1.一种去光阻剂,包含10-70重量百分比之乙酸乙二 醇丁醚酯、10-80重量百分比之具有6-10个碳原子的 苯环化合物,及/或10-40重量百分比之酮系化合物。 2.依据申请专利范围第1项所述之去光阻剂,其中, 乙酸乙二醇丁醚酯之含量为20-60重量百分比,苯环 化合物之含量为10-70重量百分比,酮系化合物含量 为10-30重量百分比。 3.依据申请专利范围第2项所述之去光阻剂,其中, 乙酸乙二醇丁醚酯之含量为40-60重量百分比,苯环 化合物之含量为10-40重量百分比,酮系化合物含量 为20-30重量百分比。 4.依据申请专利范围第1至第3项中之任一项所述之 去光阻剂,其中,该苯环化合物是选自于下列化合 物所构成之群组:甲苯、乙苯、丙苯、二甲基苯、 二乙基苯、乙烯苯、丙烯苯、二乙烯苯、三甲基 苯,及其等之一组合。 5.依据申请专利范围第4项所述之去光阻剂,其中, 该苯环化合物是选自于下列化合物所构成之群组: 甲苯、乙苯、丙苯、二甲基苯、三甲基苯,及其等 之一组合。 6.依据申请专利范围第1至第3项中之任一项所述之 去光阻剂,其中,该酮系化合物是选自于下列化合 物所构成之群组:丙酮、丁酮、环己酮、甲基异丁 基酮,及其等之一组合。 7.依据申请专利范围第1至第3项中之任一项所述之 去光阻剂,是应用于清洗彩色滤光片之制程中所使 用的颜料分散型光阻剂。 8.依据申请专利范围第7项所述之去光阻剂,其中该 颜料分散型光阻剂为彩色负型光阻。 图式简单说明: 图1是一种蓝色颜料(Pigment Blue 15.6)之化学结构式; 图2是一种绿色颜料(Pigment Green 36)之化学结构式; 图3是一种红色颜料(Pigment Red 177)之化学结构式; 图4是涂布有彩色负型光阻R的试片经过本发明实 施例B1清洗后之彩色放大相片; 图5是涂布有彩色负型光阻R的试片经过本发明实 施例B4清洗后之彩色放大相片; 图6是涂布有彩色负型光阻R的试片经过本发明比 较例B1清洗后之彩色放大相片; 图7是涂布有彩色负型光阻G的试片经过本发明实 施例B2清洗后之彩色放大相片; 图8是涂布有彩色负型光阻G的试片经过本发明实 施例B5清洗后之彩色放大相片; 图9是涂布有彩色负型光阻G的试片经过本发明比 较例B2清洗后之彩色放大相片; 图10是涂布有彩色负型光阻B的试片经过本发明实 施例B3清洗后之彩色放大相片; 图11是涂布有彩色负型光阻B的试片经过本发明实 施例B6清洗后之彩色放大相片; 图12是涂布有彩色负型光阻B的试片经过本发明比 较例B3清洗后之彩色放大相片; 图13为本发明实施例C1之负型光阻R残渍表示图; 图14为本发明实施例C2之负型光阻R残渍表示图; 图15为本发明比较例C1之负型光阻R残渍表示图; 图16为本发明实施例C3之负型光阻G残渍表示图; 图17为本发明实施例C4之负型光阻G残渍表示图; 图18为本发明比较例C2之负型光阻G残渍表示图; 图19为本发明实施例C5之负型光阻B残渍表示图; 图20为本发明实施例C6之负型光阻B残渍表示图; 图21为本发明比较例C3之负型光阻B残渍表示图; 图22为本发明实施例C7之负型光阻BM残渍表示图; 图23为本发明实施例C8之负型光阻BM残渍表示图; 图24为本发明比较例C4之负型光阻BM残渍表示图;及 图25为本发明实施例D1、D2、D3及比较例D1之负型光 阻R及负型光阻G之重量剥除克数比较图。
地址 台北市松山区八德路4段83号4楼