发明名称 电子元件热传导之方法
摘要 本发明系有关一种电子元件热传导之方法,尤指一种先于经清洗处理之高传导金属材料表面以电解氧化处理方式形成一同时具耐高温及耐高电压特性之绝缘介质层,再于该绝缘介质层上特定位置部制作一层做为通电用之导电金属膜或依所需之多数导电金属线膜,进使该高传导金属材料、绝缘层、导电金属膜三者紧密结合,并将电子元件设于该高传导金属材料上,当该电子元件导电后产生热能时,而能迅速传达到该高传导金属材料上而达极佳之热交换效果之电子元件热传导之方法。
申请公布号 TWI285082 申请公布日期 2007.08.01
申请号 TW094133750 申请日期 2005.09.28
申请人 戴瑞丰;戴芸 台北市万华区民和街19号11楼 发明人 戴瑞丰;戴芸
分类号 H05K7/20(2006.01) 主分类号 H05K7/20(2006.01)
代理机构 代理人
主权项 1.一种电子元件热传导之方法,其方法为: 其主要系将做为电子元件散热基座之热传导效率 较快之高传导金属材料进行电解氧化处理,而于该 高传导金属材料之表面形成一氧化绝缘介质层,该 氧化绝缘介质层同时具耐高温及耐高电压之特性, 再于该氧化绝缘介质层上特定位置部依所需制作 一层做为通电用之导电金属膜,而可连接导线通电 给设于该高传导金属材料上之一个或一个以上之 电子元件; 藉上述方法,当该电子元件导电后产生热能时,能 迅速传达到该高传导金属材料上,而将电子元件所 产生之热能快速带走,而达极佳之热交换目的者。 2.依申请专利范围第1项所述电子元件热传导之方 法,其制作氧化绝缘层程序系包括如下步骤: (a)先将高传导金属材料进行脱脂处理; (b)再进行化学表面研磨处理; (c)水洗; (d)中和处理; (e)电解氧化处理; (f)第二次水洗; (g)封口处理; (h)热水浸泡; (i)表面硬化形成一氧化绝缘介质层; (j)进行第二次化学表面研磨处理; (k)第三次水洗; (l)烘乾。 3.依申请专利范围第1项所述电子元件热传导之方 法,其中该导电金属膜若采用电镀方式形成时,则 需再将完成氧化绝缘介质层之高传导金属材料进 行浸泡导电液、电镀导电膜、水洗及烘乾程序形 成导电金属膜。 4.依申请专利范围第1项所述电子元件热传导之方 法,其中之导电金属膜可依所需制作形成多数呈导 电线路状之导电金属线膜者。 5.依申请专利范围第1项所述电子元件热传导之方 法,其中该导电金属膜系可采贴合方式贴合于高传 导金属材料表面之氧化绝缘介质层上。 6.依申请专利范围第1项所述电子元件热传导之方 法,其中可以弯折呈ㄈ型导电金属直接扣组于高传 导金属材料上,并藉ㄈ型导电金属所设之定位钩扣 组于高传导金属材料之定位凹孔而达定位者。 7.依申请专利范围第1项所述电子元件热传导之方 法,其中该导电金属膜亦可采涂布或印刷方式制作 于高传导金属材料表面者。 8.依申请专利范围第1项所述电子元件热传导之方 法,其中于高传导金属材料表面可依所需制作部份 或全面氧化绝缘介质层者。 图式简单说明: 第一图系本发明方法试举一运用于LED照明装置时 之较佳实施例剖示图。 第二图系本发明方法试举一运用于LED照明装置时 之较佳实施例立体图。 第三图系本发明方法之电解氧化处理及电镀导电 金属线膜之制作之流程图。 第四图系本发明方法将高传导类金属材料经电解 氧化处理使其表面具较大面积氧化绝缘介质层之 实施例剖示图。 第五图系第二图所示之导电金属膜以黏贴方式贴 合于高传导金属材料上之实施例立体分解图。 第六图系第二图所示之导电金属膜以另一弯折呈 ㄈ型导电金属直接扣组于高传导金属材料上之实 施例立体分解图。 第七图系本发明方法运用于IC积体电路时之实施 例立体分解图。
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