发明名称 积体电路及其制造方法
摘要 本发明系一种积体电路,其特征在于,具备:具有包含第一导电型杂质之井区域的半导体基板;及形成于井区域且于闸极电极之下具有通道区域的增强型MOS电晶体及复数个空乏型MOS电晶体;至少一个空乏型MOS电晶体,于通道区域具有用来调整阈值电压而植入第二导电型杂质的植入区域;植入区域具有第一导电型杂质及第二导电型杂质;第二导电型杂质之浓度为比第一导电型杂质之浓度高。本发明系提供具有增强型及空乏型两者之MOS电晶体的积体电路、具备积体电路之固态摄影装置、以及该等之制造方法,在阈值电压、调变度之不均较小且调变度较大之第二导电型电晶体中,具有不同阈值电压。
申请公布号 TW200729498 申请公布日期 2007.08.01
申请号 TW095142498 申请日期 2006.11.17
申请人 松下电器产业股份有限公司 发明人 濑户千夏;内田干也;三室研;金崎惠美
分类号 H01L29/78(2006.01);H01L21/8238(2006.01);H01L21/336(2006.01);H01L27/092(2006.01) 主分类号 H01L29/78(2006.01)
代理机构 代理人 桂齐恒;阎启泰
主权项
地址 日本