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发明名称
乙烯基衍生物之聚合物、防反射膜形成组成物及防反射膜
摘要
本发明提供一种,具有下述一般式(1)、与(2)及/或(3)所示之重覆单位,以GPC测定聚苯乙烯换算重量平均分子量为1,000~100,000之乙烯基衍生物的聚合物。其系在微影制程中,可防止对光阻层之反射及互混的防反射膜中所含有之乙烯基衍生物的聚合物。〔式(1)~(3)中,R1及R4为氢原子或甲基;R2为相同或相异之氢原子、碳数1~6之可取代的烷基;R3为氢原子或环氧丙基;X为单键结或伸甲基;p、q为0~7之整数,p+q=7;Y为可交联之碳数1~10的1价有机基〕。
申请公布号
TW200728320
申请公布日期
2007.08.01
申请号
TW095138770
申请日期
2006.10.20
申请人
JSR股份有限公司
发明人
田中正人;杉田光;高桥纯一;能村仲笃
分类号
C08F12/02(2006.01);C08F12/32(2006.01);G03F7/11(2006.01);H01L21/027(2006.01)
主分类号
C08F12/02(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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