发明名称 | 基板处理装置 | ||
摘要 | 本发明为一种基板处理装置,其特征为,于应从第2集群12返回第1集群10之晶圆101被传送至传递部PA时,第1集群10的真空搬送机器手臂RB1,系于维持使晶圆101在传递部PA中等待之状态下,优先执行第1集群10内的序列搬送。之后,真空搬送机器手臂RB1系于以一边的臂将下1片应从第1集群10送至第2集群12之晶圆104加以保持之状态下,藉由取放动作而以另一边的臂拉取位于传递部PA之晶圆101,并与此动作交替进行而以上述一边的臂将晶圆104传送至传递部PA。根据此顺序,系能够尽可能的提升使用有2个集群(多反应室装置)10、12的多数个制程模组之连续处理的处理量。 | ||
申请公布号 | TW200729380 | 申请公布日期 | 2007.08.01 |
申请号 | TW095144032 | 申请日期 | 2006.11.28 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 池田岳;长田圭司;鹰野国夫 |
分类号 | H01L21/67(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/67(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 林志刚 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |