具可滑动基板座之CVD反应器

摘要

本发明系有关一种在一基板上沈积至少一层薄膜之装置，其包括一或多个容置基板之基板座(7)、一个可被驱动旋转且构成一反应室(2)底板之基板座载板(6)、一个位在基板座载板(6)下方之加热装置(22)及一个将反应气体输入反应室中的进气机构(4)。为进一步改良此种装置，使其在制造技术及使用上更有利，本发明将基板座载板(6)可滑动地放置在一可使红外线及/或高频通过之支撑板(14)上。