| 发明名称 |
具一进气机构之CVD反应器CVD-REAKTOR MIT EINEM GASEINLASSORGAN |
| 摘要 |
本发明系有关一种在一基板上沈积至少一层薄膜之装置，其反应气体经一固定于反应器壳体之进气机构(3)的垂直流动通道(4)流入一位在水平方向上的反应室(1)中，该反应气体由伸入旋转对称反应室(1)中心的进气机构(3)端部流出口流出，并径向通过位在水平方向上可对中心旋转并承载基板之反应室(1)底板(8’)上方。为改良反应室底板正上方的气流，本发明使进气机构(3)端部(3’)伸入一凹槽(23)中，且一气体转向面(6)末端(6’)对齐反应室底板(8’)。 |
| 申请公布号 |
TW200728497 |
申请公布日期 |
2007.08.01 |
| 申请号 |
TW095143509 |
申请日期 |
2006.11.24 |
| 申请人 |
爱思强公司 |
发明人 |
马丁 道尔斯伯格;约翰尼斯 卡普勒;康诺 马丁 |
| 分类号 |
C23C16/455(2006.01);C30B25/14(2006.01);H01L21/205(2006.01) |
主分类号 |
C23C16/455(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
赖经臣;宿希成 |
| 主权项 |
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| 地址 |
德国 |
