清洁配方

摘要

本发明涉及一种用于从半导体基材上去除不需要的有机和无机残留物和污染物的含水清洁组合物。所述清洁组合物包含衍生物例如二甲基作为主要用于从基材去除有机残留物的组份。本发明的清洁组合物中还含有氟离子源，该组份主要用于从基材上去除无机残留物。本发明的清洁组合物具有低毒性并且合乎环境要求。