发明名称 |
用于压印微影之对准方法 |
摘要 |
本发明揭示一种用于将一压印模板相对于一基板之目标区域对准的方法,该方法包括在该目标区域内沈积一体积之可压印介质;将一压印模板与该可压印介质相接触以使得该可压印介质被压缩,且允许该压印模板、该目标区域或两者在该目标区域与该压印模板之间的界面张力的作用下相对于彼此横向地移动,其中提供一种润湿不如该基板的材料并予以建构成为至少部分地环绕该基板之该目标区域。 |
申请公布号 |
TW200728928 |
申请公布日期 |
2007.08.01 |
申请号 |
TW095146298 |
申请日期 |
2006.12.11 |
申请人 |
ASML公司 |
发明人 |
乔汉 夫德克 迪卡蔓;依芙 温蒂拉 古利基-史黛嫚;雷蒙 杰可伯 克那潘;克拉斯米尔 图德洛夫 克拉史帝夫;TODOROV;艾维 史曼;乔和纳 凡 温格登;珊德 弗瑞德瑞克 威斯特 |
分类号 |
G03F7/16(2006.01);G03F7/20(2006.01);G03F7/039(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/16(2006.01) |
代理机构 |
|
代理人 |
陈长文 |
主权项 |
|
地址 |
荷兰 |